iMobile手機(jī)之家，10月18日消息    日前，三星發(fā)表新聞稱其基于EUV（極紫外光刻）技術(shù)的7nm LPP制程工藝已經(jīng)開始投入生產(chǎn)，根據(jù)三星官方資料，其7nm LPP工藝可以有效縮減芯片面積40%，同條件下可以提升20%性能表現(xiàn)或者50%的能耗降低。其所采用光刻機(jī)型號為雙工件臺(tái)NXE:3400B（光源功率280W），日產(chǎn)能1500片。

從產(chǎn)品規(guī)劃來看，工藝已經(jīng)已經(jīng)成熟，三星很有可能在2019年就能推出自家首款7nm工藝制程SoC，而根據(jù)此前消息，高通的5G基帶芯片組也將采用三星代工。