三星7nm LPP開始投產 自家獵戶座或首發(fā)采用
2018-10-19 07:35:27
來源：手機之家??
iMobile手機之家，10月18日消息 日前，三星發(fā)表新聞稱其基于EUV（極紫外光刻）技術的7nm LPP制程工藝已經開始投入生產，根據三星官方資料，其7nm LPP工藝可以有效縮減芯片面積40%，同條件下可以提升20%性能表現或者50%的能耗降低。其所采用光刻機型號為雙工件臺NXE:3400B（光源功率280W），日產能1500片。
從產品規(guī)劃來看，工藝已經已經成熟，三星很有可能在2019年就能推出自家首款7nm工藝制程SoC，而根據此前消息，高通的5G基帶芯片組也將采用三星代工。
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