2月15日,ASML發(fā)布2022年度財報。報告顯示,ASML在2022年銷售額達(dá)到212億歐元,與2021年相比增長了13.8%,毛利率為49.7%。
ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink在年報中介紹,盡管2022年經(jīng)歷了很多動蕩,但是ASML依舊取得了不錯的成績。預(yù)計到2025—2026 年,ASML將大幅提升產(chǎn)能,達(dá)到年產(chǎn)90臺EUV(極紫外光)光刻機(jī)和600臺DUV(深紫外光)光刻機(jī)。同時,在2027年到2028年,將增產(chǎn)20個高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)。
年報中對ASML最新光刻設(shè)備做了詳細(xì)介紹。年報顯示,最新一代的EUV 0.33 NA光刻系統(tǒng)TWINSCAN NXE:3600D,與前代產(chǎn)品TWINSCAN NXE:3400C相比,生產(chǎn)率提高了15%~20%,覆蓋率提高了約30%,同時還提高了系統(tǒng)可用性。EUV 0.55 NA是下一代EUV光刻系統(tǒng),相比較于EUV 0.33 NA而言有更高的分辨率。該系統(tǒng)預(yù)計將于2025年首次部署,將在2025—2026年開始支持大批量生產(chǎn)。EUV 0.55 NA光刻系統(tǒng)TWINSCAN EXE:5000已經(jīng)在2022年收到了采購訂單,預(yù)計該系統(tǒng)未來將達(dá)到每小時220片晶圓的生產(chǎn)率。
年報顯示,2022年第三季度ASML推出了最新浸入式系統(tǒng)TWINSCAN NXT:2100i,該系統(tǒng)除了對透鏡計量、光罩調(diào)節(jié)和晶圓表的內(nèi)在改進(jìn)以及對整體交叉匹配改進(jìn)外,NXT:2100i還具有對準(zhǔn)優(yōu)化器12顏色包等創(chuàng)新。該系統(tǒng)能提供每小時295片晶圓的生產(chǎn)率,能夠為3nm 及以下節(jié)點上的浸沒層的提供最具成本效益的解決方案。在干式系統(tǒng)中,最新TWINSCAN NXT:1470雙級ArF系統(tǒng),可以打印分辨率低至220nm的圖案,用于200mm和300mm晶圓生產(chǎn),實現(xiàn)每小時330個晶圓的生產(chǎn)率。
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